[轉]使用Cadence ADE + Spectre做Montel Carlo仿真

上一篇 / 下一篇  2019-01-10 16:27:39

1。 工藝模型的選擇。以TSMC 180nm工藝為例,1。8V Normal devices 有TT,SS,FF,SF,FS共5種工藝Corner及Montel Carlo(MC)共6種可選用工藝角。在每種Corner中每種類型的管子又有兩種類型,比如NMOS有nch和nch_mis兩種,其中第nch是用MODEL定義的,而nch_mis是用SUBCKT定義的。做一般仿真(比如DC,AC,TRAN等)的時候,兩個模型都可以使用。在做Montel Carlo仿真的時候如選用nch_mis器件,且corner選用TT,SS,FF,SF,FS,則只進行Devive-to-Device的mismatch分析,若corner選擇MC,則可同時進行Die-to-Die和Devive-to-Device的分析)。在做Montel Carlo仿真的時候如選用nch、pch器件,且corner選用TT,SS,FF,SF,FS,實際上不能進行任何mismatch分析,因為此時器件的參數都不含分布函數,若corner選擇MC,則可進行Die-to-Die的分析。具體進行什么分析,由下面一條中的設置決定。

2. Process,Mismatch和Process&Mismatch。Process仿真時在Analog Statistical Analysis中Analysis Variation可以有以上三種選項。選Process則Monte Carlo中每RUN一次的時候,Die to Die 的一些模型參數會重新隨即選取,而Mismatch關聯的一些參數保留相同,也就是說同一次RUN的電路中的相同類型的器件的所有參數將完全相同。反之,選Mismatch則每次RUN則只改變那些參數的值,而Die to Die相關的那些參數則完全相同。如果選擇Process & Mismatch,則每次RUN的時候兩種情況下的參數都重新取值。使用Cadence <wbr>ADE <wbr>+ <wbr>Spectre做Montel <wbr>Carlo仿真

3.在對DC仿真進行Montel Carlo分析的時候會發現一些想要看的DC信息無法PLOT出來。比如在對放大器的失調電壓進行仿真的時候需要用到上圖所示Testbench,而在ADE中選擇DC仿真,設置Save DC Operation Point而不做任何Sweep。一般在DC仿真時只要選擇Vout就可將Vout信號Plot出來。但是如果接著進行Montel Carlo仿真會發現這樣選擇的信號(圖1中/Vout)在Analog Statistical Analysis中Data Type顯示為wave,無法Plot出來。這時候需要現在ADE中調用Calculator選擇DC后選VDC(或Sweep_DC后選vs),再在Schematic中選中Vout信號,這樣在Calculator中將是VDC("/VOUT") (或VS("/VOUT")),這樣在之后進行Montel Carlo分析時,在Analog Statistical Analysis中Data Type顯示為scalar,可以Plot出此信號的Histogram圖出來。

 

4. Montel Carlo分析需要相應的帶Montel Carlo參數的模型支持,如1所述。如果Analysis Variation選擇了Process,而所用器件的模型中沒有定義Die to Die的相關參數,則無法進行。另外不同EDA工具對高斯函數的格式定義有區別的。比如在Simetrix中就用GAUSS(tol)表示一個平均值(Mean)為1,標準偏差(Standard Deviation)為tol/3的高斯過程,也就是說公差(Tolerance)為tol的3  Sigma的高斯分布(3 Sigma Gaussian distribution)。而在Hspice中則有GAUSS(nominal_cal, rel_variation, num_sigma)和AGAUSS(nominal_cal, abs_variation, num_sigma)兩個函數可用。Simetrix中的GAUSS(tol)=Hspice中的GAUSS(1,1*tol,3)=Hspice中的AGAUSS(1,tol,3)。

 

(原文地址:http://blog.sina.com.cn/s/blog_7affefaf01011kyd.html)


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